半導體真空腔體的使用

等離子清洗機又稱等離子清潔機,離子外表處理儀,是一種全新的高科技技能,使用等離子體來到達常規清洗辦法無法到達的作用.等離子體的“活性”組分包含：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等.等離子清潔機就是經過使用這些活性組分的性質來處理樣品外表,然后實現清潔、涂覆等目的.

在鋁合金腔體里,經過射頻電源在必定的壓力情況下會發生高能量的無序的等離子體,經過等離子體炮擊被清洗產品外表．以到達清洗目的．

等離子清洗機的結構首要分為三個大的部分組成,分別是操控單元、真空腔體以及真空泵

一、操控單元

國內使用的等離子清洗機,包含國外進口的,操控單元首要分為全自動操控、半自動操控、PC電腦操控、液晶觸摸屏操控四種方式.

其間操控單元又分為兩部分：

1.電源部分：首要電源頻率有三種,分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其間13.56MHz是需求電源匹配器的.

2.系統操控單元：按鈕操控（半自動、全自動）、電腦操控、PLC操控（液晶觸摸屏操控）.

二、真空腔體：

真空腔體首要是分為兩種原料的：

1.不銹鋼真空腔體

2.鋁合金腔體

三、真空泵：

方形真空腔體分為兩種：

1.干泵

2.油泵